敏感元件:半导体单晶硅;
信号类型:电阻变化,差分电压输出;
弹性体:硅薄膜,弹性恢复性极好。
敏感元件:陶瓷绝缘材质;
信号类型:电容变化;
弹性体:厚陶瓷片,刚性强、形变量小。
单晶硅:0.05% / 0.075% / 0.1% FS,计量级精度,线性、迟滞、重复性三项误差极低,可用于贸易结算、流量精准计量。
陶瓷电容:主流 0.2% FS,高端最多做到 0.15% FS,无法达到计量级标准,仅满足常规工艺监测。
单晶硅:单晶晶格均匀,搭配多点数字全温补偿,-40~120℃温漂极小,高低温环境零点漂移控制优秀,户外、蒸汽、电解高温工况稳定。
陶瓷电容:陶瓷与金属密封件热膨胀系数差异大,温差大时零点偏移明显;低温环境误差放大,适合温度变化平缓的常温工况。
单晶硅:无分层界面,弹性疲劳极低,年漂移≤0.1% FS,2~4 年校准一次,长期无人值守装置优势大。
陶瓷电容:陶瓷与金属密封长期冷热交替易产生应力蠕变,年漂移约 0.2% FS,建议每年校准;频繁压力循环后零点易偏移。
单晶硅:短时可承受 10 倍满量程过载,膜片回弹无残余形变;固有频率高,压缩机脉动、水锤、液压冲击工况数据平稳,不跳数。
陶瓷电容:过载能力仅 2~3 倍 FS,超压容易陶瓷开裂、极板永久变形报废;响应偏慢,高频脉动压力下测量波动明显。
单晶硅:最大 200:1 大量程比,微压(50Pa 起)测量灵敏度高,微弱压力变化可精准捕捉。
陶瓷电容:量程比仅 10:1,微压段灵敏度差,低于 1kPa 小压力测量误差大,更适合中高压工况。
可测高温蒸汽、高粘度、易结晶介质;
强腐蚀介质(氯离子、强酸强碱)更换特种膜片即可适配;
支持双法兰远传结构,远距离测罐体液位。
陶瓷电容:不耐 HF 氢氟酸、浓强酸;不可用于高温粘稠介质,无远传双法兰方案;微压精度差。
单晶硅:存在硅油渗漏极小概率,食品超高洁净等级工况需选用无油平膜款式。
价格
同规格下:陶瓷电容成本最低;单晶硅价格高出陶瓷 30%~70%。
寿命
常温、低压、洁净干介质:陶瓷电容使用寿命够用;
高低温、脉动冲击、腐蚀介质、长期连续运行:单晶硅整体使用寿命更长。
需要贸易计量、流量精确控制,精度要求≤0.1% FS;
微压测量、需要大范围缩量程使用;
工况温差大:冬季户外、高温蒸汽、电解槽、加热反应釜;
存在水锤、压缩机、液压冲击等脉动压力;
介质强腐蚀、高粘度、易结晶,需要双法兰远传;
装置长期连续运行,希望减少停机校准频次;
加氢、锂电、精细化工、热力计量等高要求工艺。
仅基础监测,精度要求 0.2% FS 即可,无计量需求;
常温环境,温度波动小;
洁净中性介质:自来水、纯水、干燥空气、中性污水;
不允许硅油污染介质(简易食品、纯水管道);
低压、无剧烈压力冲击,预算偏低,测点数量多;
普通暖通、水泵、空压机辅助监测点位。
