压力过载、水锤冲击、交变压力,硅膜片大形变,电阻会产生不可逆应力;
温度变化、安装应力、焊接残余应力,直接耦合到电阻,零点就飘;
过载大了,硅膜片容易塑性损伤,属于膜片本身扛所有外力。
简单理解:扩散硅是 “电阻长在受压薄膜上”;单晶硅是 “薄膜受压,力再传给专门的检测梁”,把承压和测应力两件事物理分开。
扩散硅:一般安全过载 150%‑200% FS,极限过载再高就容易膜片微损伤。遇到水锤、启停冲击,哪怕没直接炸芯片,硅膜片会产生微小残余形变,零点偏移,回差变大,精度永久变差,外表看不出坏,但测量不准。
单晶硅:普遍安全过载 300%‑500% FS,部分产品可达 10 倍过载。
金属隔离膜片承受冲击,硅油柔性传递压力,单晶硅梁只获得均匀轴向应力,瞬时冲击很难造成敏感元件不可逆损伤。很多现场水锤、泵启停脉冲工况,扩散硅零点飘,单晶硅还能稳住零点,这就是现场最直观的 “抗造”。
注意:不是不会坏,超过极限压力,金属膜片鼓破、硅油泄漏一样报废,只是容错区间大很多。
扩散硅:硅膜片、电阻、玻璃基座热膨胀不一致,温度一变,产生附加热应力叠加在压阻电阻上,零点温漂、量程温漂来源很大一部分不是硅本身,是封装热应力。低温、高温交变工况,零点容易跑。
单晶硅应力隔离结构:敏感硅梁几乎不受封装带来的弯曲热应力;只感受均匀压应力。同样宽温域,零点漂移更小,冷热反复折腾,不容易慢慢偏移。
扩散硅:硅膜片反复弯曲,电阻‑硅‑玻璃界面持续承受交变应力,时间久会出现蠕变、零点慢漂,使用 1‑2 年后零点偏移会明显变大。
单晶硅:敏感元件是梁的轴向拉伸压缩,不是反复大弯曲形变;材料蠕变极低,百万次交变压力之后零点、回差保持更好,长期不用频繁校准,现场寿命更长。
抗造是抗压力冲击、过载、交变压力;不代表耐腐蚀更强。腐蚀看金属膜片材质(316L、哈氏、蒙乃尔),芯片本身不接触介质,这点两者一样。介质腐蚀膜片,单晶硅一样坏。
抗振动:高频剧烈振动,单晶硅谐振式要小心共振点;普通压阻型单晶硅无此问题。扩散硅芯片膜片薄,高频振动也会带来零点扰动。
成本更高,同量程单晶硅价格明显高于普通扩散硅。
普通扩散硅做好封装、充油工艺,也能做到不错稳定性,只是上限远不如单晶硅。
普通工况:压力平稳、无大冲击,扩散硅够用,性价比高。
需要 “抗造” 场景:水锤、泵启停冲击、交变压力、宽温、不希望频繁校准(加氢、液压、蒸汽、往复设备),单晶硅优势充分体现。
